загрузка...
 
5 Метод іонного та реактивного розпилення
Повернутись до змісту

5 Метод іонного та реактивного розпилення

Якщо бомбардувати поверхню твердого тіла або рідини окремими атомами, молекулами чи іонами, то на поверхні може відбуватися багато явищ. Яке із них відіграватиме основну роль, значною мірою залежить від енергії частинок.

При відносно малій енергії (5 еВ) атом потрапляє на поверхню або відбивається від неї.

Якщо кінетична енергія частинок, які бомбардують поверхню, більша за енергію зв'язку атомів, то поверхневі атоми починають мігрувати, внаслідок чого виникають поверхневі дефекти. При кінетичній енергії, більшій за величину 4Q (Q - теплота сублімації матеріалу мішені), виникає фізичне іонне розпилення.

Хоча для бомбардування використовують не нейтральні атоми, а іони (їх можна розганяти до будь-яких кінетичних енергій), ефект розпилення мішені буде однаковим як для іонів, так і для  нейтральних атомів. Це пов'язано з тим, що іон нейтралізується ще при підльоті до мішені на атомні відстані (якщо мішень металева).



загрузка...